真空镀膜机
400系列
真空镀膜作为半导体、显示、光伏等行业的重要工艺流程，对于器件和模组最终的产品性能起着至关重要的作用。在高真空度下，采用热蒸发或磁控溅射等手段，将高纯金属、化合物功能层等镀膜材料，以超高精度，如0.1nm/s的速度，均匀、致密地沉积到基材表面，并精确控制其厚度，通过不同性质的膜层组合，实现特定器件的特殊功能，如光伏发电、电致发光、晶体管放大等。
真空镀膜仪，一般采用机械泵作为一级泵，将蒸镀腔体抽真空至0.1 Torr以下，然后采用扩散泵或分子泵等作为二级泵，将蒸镀腔体进一步抽真空至0.00001Torr以下。10-5Torr基本可以满足常见金属和功能材料的镀膜需求。
采用热蒸发方法的蒸镀工艺，通过给蒸发舟，如钨舟、钼舟等，加以超大电流，通过在高温、高真空下的热效应，使得固体金属或功能材料发生升华，进而扩散沉积到基材表面，部分工艺还会控制基材的温度，以进一步提升沉积效果。
采用磁控溅射方法的镀膜工艺，是通过磁场约束高压下产生的等离子体，通常为Ar等离子体，轰击靶材，通过与靶材的碰撞将靶材分子溅射而出，沉积到基材表面，部分工艺也会控制基材的温度，以进一步提升沉积效果。
本公司产品D400/M400结构紧凑，占地面积小，集成度高，智能化触摸屏控制，可以实现高真空下的精密镀膜，实时膜厚监测系统和蒸发速率控制系统，可以实现0.1nm/s的精密镀膜控制，是高端智能制造业、科研领域的最佳选择。
1、电流恒定可靠。通过反馈循环控制，保持蒸镀电流恒定。常规配置最大电流可以达到100A，可以选配至150A。
2、集成触控控制。全部阀门均采用智能化控制，通过触摸屏开启或关闭高真空电磁阀、高真空蝶阀、机械泵、分子泵、扩散泵、冷却水等。
3、结构紧凑，占地小。所有真空泵全部集成在设备内部，无需外接气动装置、冷却装置等。
4、高精度监测膜厚沉积速率。膜厚沉积速率可以精确控制到0.1nm/s，通过晶振压电效应，精确确定共振频率，计算出材料的沉积速率，保证高质量成膜。
客户实用案例：
采用D400在玻璃基材上蒸镀金、银、铝等常见金属，均可以达到致密、镜面、精确控制蒸镀速率的效果。
