等离子体清洗机，是利用电路产生等离子体来进行对基材表面处理的装置。其利用高压电路，在真空环境下，将残余气体分子等离子体化，利用产生的等离子体轰击基材表面，进行表面处理。根据其使用场景不同，可以分为：

​

1、表面清洁。通常采用无机或有机溶剂清洗过的基材表面，仍然会有难以溶解的有机物或是清洗溶剂的残留，等离子体具有高活性，可以很容易将残留的杂质彻底清洗干净，达到半导体行业要求极度洁净的效果。

​

2、表面改性。基材表面是亲水性还是疏水性，对于下一层膜的涂覆或者基材的加工具有重要影响。通过引入不同的气体源，如氧气或者氩气，可以分别对基材进行亲水或者疏水性修饰。

​

3、元素掺杂。通过引入不同的气体源，如氧气、氮气、二氧化硫等不同元素的气体，可以对处理样品进行不同程度而定掺杂。

​

4、基材刻蚀。通过与光刻胶、显影剂等半导体工艺结合，可以实现与化学刻蚀等同的刻蚀效果。